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集成电路布图设计法律保护的先决条件分析

作者:知识产权律师 标签: 填加时间 : 2016-07-21 14:37
 
 集成电路保护

    我国集成电路布图设计保护条例第4条规定了布图设计保护的条件,即独创性,该布图设计是创作者自己智力的劳动成果,并且布图设计在创作的时候在行业中不是公认的常规设计。由多个常规的布图设计组合而成的布图设计作为一个整体也应当符****创性的条件。
 
  从上述表述我们可以看出布图设汁的独创性有两层含义。
 

  1.集成电路保护独立创作
 

  布图设计必须是创作者自己完成的智力劳动成果,这意味着,集成电路保护其所完成的布图设计不是复制的,也不是抄袭他人的已有设计,集成电路保护独立创作性是布图设计受保护的原因之一也是知识产权的共同属性,这体现了法律对个人智力劳动成果的尊重,这里值得注意的是,集成电路保护独立创作性要求创作者“独创”而不是“第一个创作”,条例同版权法一样,保护思想的表达,而:集成电路保护是保护思想本身,如果是基于同一个设计思想先后表达的两个同样布图设计其实都有可能收到法律的保护。但是如果在后的布图设计创作的时候,在先的布图设计已经成为了常规设计,那么在后表达的布图设计也得不到法律集成电路保护。集成电路保护独立创作性也是布图设计侵权的抗辩之—。
 

  2集成电路保护非常规设计
 

  受保护的布图设计要具有集成电路保护创造性,即非常规设计。布圈设计若想获得法律集成电路保护保护必须要具备创造性,集成电路保护不保护无价值、对人们无益的布图设计,这点毋庸置疑,而在版权法理论中作品独创性条件中规定了创造性,专利法理论都对发明创造的集成电路保护创造性也做了规定,集成电路保护应具备的创造性概念肯定与版权法和专利法中所规定的创造性不同,那么,集成电路保护所具备的创造性程度究竟是怎样的,这一点则要讨论。
 
  首先,布图设计的集成电路保护创作性高于版权法中的关于作品的创造性程度,原因在于:世界上各国对于集成电路保护作品的创造性规定不同,英国司法判例存判断作品的创造性沿袭了其传统理论“额头出汗”原则,意思是一项作品只要作者付出了劳动投入,无论其创作水平的高低,都可以收到版权法的保护,通俗点说,哪怕是个三岁的小孩子随便画的一副画都具备创造性。德国著作权法理论对独创件的要求是作品不仅包含作者的个性,而且还必须流露作者的思想感情并达到一定的创作高度,法国著作权法认为,独创性是指作品必须是作者个性的写照。我国的著作权法理论中对于集成电路保护创造性的概念和原则规定的比较模糊,但是,布图设计想要受到集成电路保护,必须是对现有的布图设计的一种改进。
 
  其次,布图设计所具备的集成电路保护创造性低于专利法中规定的集成电路保护创造性,中国专利法中所说的创造性是指:专利申请同申请提交日前的现有技术相比,该发明具有突出的实质性特点和显著的进步。该实用新型有实质性特点和进步。实质性特点是指申请保护的技术方案与现有技术相比具有实质性的区别,不是在现有技术的基础上通过逻辑的分析、推理或者简单的实验就能得出结果,而是必须要经过创造性的思维活动才能获得的结果。显著的进步是指相对现有技术来说具备意想不到的效果。而布图设计的进步仅仅是集成度的提高,即在块小小的芯片上集成的电了元器件数量的增多,不论是常规设计还是当前新中请的电路布图设计,其中的设计思想和实施效果并没有太大改变,更不能让人产生想不到的效果了,所以,布图设计所具有的创造性低于专利法中规定的创造性。

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